半导体薄膜不能用直流磁控溅射制备吗？

可以肯定地回答：不能够。

因为半导体材料导电性不佳，如果用直流磁控溅射的方法，在靶面就会形成很高的电压，很小的电流，很容易产生灭弧，溅射根本不可能延续。所以说半导体薄膜不可能用直流磁控溅射制备。

你可考虑使用中频溅射、射频溅射或蒸发镀的方法。

半导体工厂里面有个部门叫 thin film 就是薄膜的意思。

主要是通过 相关化学原料在一定条件下反映然后沉积在芯片表面的过程，厚度由时间和温度等条件确定，主要技术是CVD ，化学气相沉积

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。

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