磁控溅射膜检查哪些项目，哪位朋友能详细介绍一下啊？

这个问题问的太不专业。

磁控溅射膜有很多种，除了一般都要检查附着力以外，按应用领域不同，检查项目也不同。比如，装饰镀膜，可能要检查颜色的l,a,b值，耐盐雾性，耐人工汗，耐纸带磨擦性等等；工具镀膜，一般要检查厚度、附着力评级。润滑膜可能还要检查摩擦系数；光学镀膜则要测量分光曲线，盐雾测试，高温高湿等等。

而且，即使是装饰膜，镀膜的基材不同（金属、玻璃、塑胶、薄纸、地砖），膜层的结合力测试方法也会不同。

一、磁控溅射膜

1、磁控溅射隔热膜又称磁控溅射金属膜，采用多层磁控溅射工艺打造而成，以持久反射隔热的出色性能而著称。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多特点，一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。

2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛，可以制造工业上所需要的各种薄膜。如：超硬薄膜、耐腐蚀耐摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜、隔热膜以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。

3、简单的说，磁控溅射隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材，并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上，沉积成金属镀膜层。

4、隔热原理：磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在安全基层上，这些金属层会选择性的将阳光中的各种热能源，包括红外线、紫外线及可见光热能反射回去。从而有效祈祷隔热及保护人体及汽车内饰免受紫外线伤害的作用。

二、金属膜是采用磁控溅射技术的。

三、一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。

(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。

(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。

磁控溅射技术的应用有，主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。   用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜，不需喷底漆，也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备），在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀，去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。磁控溅射镀膜设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机；旋转磁控溅射镀膜技术，是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术，靶材利用率达到70～80%以上，基体镀膜均匀，色泽一致。 b平面磁控溅射镀膜机； c中频磁控溅射镀膜机；  d射频磁控溅射镀膜机。可以在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、钛铝及金属反应物（氧化物、氮化物、炭化物）、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附着力好等特点。多弧离子镀膜设备及技术该技术在各种金属和非金属表面上，如不锈钢、铝合金、铜、铁以及陶瓷、玻璃等涂镀各种金属、非金属及其化合物的膜层和复合膜层，如Ti、Zr、TiN、TiC、TiO2、ZrN、ZrC|、ZrO等，产生耐磨、耐蚀、耐用的各种颜色装饰效果：如金色系列、彩色系列、黑色系列等等可广泛用于建筑、家具、机械工模具等行业。等离子扩渗镀膜设备及技术离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗)等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比，PCVD技术可实现离子渗氮、渗碳和镀膜在同一炉内依次进行，高效率地实现渗透复合工艺。该设备适用于要求提高表面耐磨损、耐腐蚀、抗高温氧化、抗疲劳的零部件和工模具。被处理材料主要包括：高速钢、冷热钢、冷热模具钢、结构钢、不锈钢、钛合金、硬质合金等

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