芯片上不同MOS管之间是靠金属或者多晶硅互联的,越是复杂的芯片,这个互连线越是不可能在一层之内布完,于是就有好几层互连线,不同层互连线之间就要有ILD来隔离并支撑。
任意两根导线之间都有电容,ILD介质介电常数比较高,导线比较宽,距离比较近的时候层间电容就有比较大影响。
ILD有4个涵义:1.注入型激光二级管(Injection laser Diode)
又称p-n junction laser,半导体结型二极管激光器。是较成熟、较常用的一类半导体激光器,于1962年首次研制成功。
它的主体是一个正向偏置的p-n结,当电流密度超过阈值时,注入载流子(电子和空穴)在p-n结结区通过受激辐射复合,产生激光。其工作特性和输出特性受温度影响极大,故备有冷却系统。最早的同质结型砷化镓(GaAs)半导体激光器,在一块经过加工的砷化镓单晶体的上、下两面上(p型与n型砷化镓)分别焊上电极,组成谐振腔的两端面要平行,并经过研磨抛光,甚至涂膜,以增加反射,也可以直接利用平行的平坦晶面(自然解理面)组成谐振腔。砷化镓的折射率约为3.6,在半导体与空气的分界面上反射率高于30%,因此,它可提供光反馈作用,使激光振荡能够产生,激光波长约为9040Å。
可用在雷达、计算机及通信系统中,或用作视频唱片和声频唱片的光源,它在超高分辨率光谱学、集成光学以及军事等方面有着广泛的应用。
2.指示逻辑图表(instructional logic diagram)
3.德语 Ich Liebe Dich(I Love You,我爱你) 的缩写
4.间质性肺疾病(interstitial lung disease)
间质性肺疾病(ILD)是以弥漫性肺实质、肺泡炎症和间质纤维化为病理基本病变,以活动性呼吸困难、X线胸片弥漫性浸润阴影、限制性通气障碍、弥散(DLCO)功能降低和低氧血症为临床表现的不同种类疾病群构成的临床-病理实体的总称。
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