光阻液主要由树脂(resin),感光剂(sensitizer),溶剂(solvent)三种成分混合而成。
光阻液种类: 光阻液分为正光阻及负光阻两种。
1. 正光阻: 光阻本身难溶于显影液,曝光后解离成小分子,形成容易溶于显影液的结构。
2. 负光阻: 曝光后形成不容易溶于显影液的结构。
半导体材料(semiconductormaterial)是导电能力介于导体与绝缘体之间的物质。半导体材料是一类具有半导体性能、可用来制作半导体器件和集成电的电子材料,其电导率在10(U-3)~10(U-9)欧姆/厘米范围内。其用于光催化就叫做光催化剂
绝对用得着 只要是半导体工艺就需要, 需要的工艺嘛,包括清洗工艺、腐蚀工艺等。需要的化学试剂等级嘛,分析纯、MOS纯、CMOS-I、CMOS-II等等,CD尺寸越高,需要的化学试剂等级越高,颗粒尺寸要求越小。需要的化学试剂种类有:硫酸、盐酸、氨水、双氧水、氢氟酸、冰乙酸、硝酸等等。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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