什么是扩散炉？它有什么用处？

扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氢氧合成）两种，扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。

扩散炉超温表中字母意思，XMT------ 表示智能温控仪表.

D----------表示面板外形尺寸72×72(mm).

2----------2系列温度控制系统

0----------面板式温度控制仪表

4----------嵌入式安装方式

OUT------- 加热指示.(加热时亮)

OFF------- 加热停止指示灯.(一般不用)

ALM------ 超温报警灯(超2度时灯亮)

SET--------设定键,可设定目标温度或查看目标温度值.

△------增加键,在设定状下,按此键可使设定值递增,长按此键可使设定值连续递增.

▽------减少键.在设定状下,按此键可使设定值递减,长按此键可使设定值连续递减.

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