半导体氟化氢取样系统原理

半导体氟化氢取样系统原理,第1张

原理是利用氟化气体,将半导体表面的氧原子进行氧化。根据相关信息查询,分离出氟化物层,这也是一种膜,用来把半导体材料与环境隔离开来,从而保护半导体材料不受外界环境影响,提高其稳定性。

因为氟化氢和玻璃的主要成分之一二氧化硅反应,产物是水和四氟化硅。

氟化氢(hydrogen fluoride),化学式HF,是由氟与氢组成的二元化合物,是一种无色有刺激性气味的气体 。

氟化氢用途非常广泛,高纯度的氟化氢在半导体材料的生产中扮演着不可或缺的重要角色。其主要用于切割半导体基板,在半导体产品制造的600多道工序中,使用氟化氢的次数有时多达十多次。

由于氟化氢具有极强的腐蚀性,一般无法长期保存,因此韩国半导体企业之前都是从日本小批量进口。而且氟化氢的纯度对于半导体产品的品质影响很关键。

扩展资料

氟化氢用于有机或无机氟化物的制造,如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用于不锈钢、非铁金属酸洗,玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字。

以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除、半导体(锗、硅)的制造。

也用作染料合成。及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。

参考资料来源:百度百科-氟化氢

1、主要用作含氟化合物的原料,也用于氟化铝和冰晶石的制造,半导体表面刻蚀及用作烷基化的催化剂

2、在电子工业中用作强酸性腐蚀剂,可与硝酸、乙酸、氨水、双氧水配合使用。

3、用作分析试剂,也用于高纯氟化物的制备。是氟盐、氟致冷剂、氟塑料、氟橡胶、氟医药及农药等所必需的氟来源

4、是生产冷冻剂“氟里昂”、含氟树脂、有机氟化物和氟的原料。在化工生产中可用作烷基化、聚合、缩合、异构化等有机合成的催化剂。还用于开采某些矿床时腐蚀地层,以及稀土元素、放射性元素的提取。在原子能工业和核武器生产中是制造六氟化铀的原料,也是生产火箭燃料和添加剂的原料,还可用于腐蚀玻璃和浸渍木材等。

5、用于有机或无机氟化物的制造,如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用于不锈钢、非铁金属酸洗,玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字,以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除、半导体(锗、硅)的制造。也用作染料合成。及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。

6、用于刻蚀玻璃,酸洗金属,制无机类氟盐产品及化学试剂。

7、用于原子能工业、制元素氟、氟化物,也可作催化剂、氟化剂等 用于有机或无机氟化物的制造,也用于不锈钢、非铁金属酸洗、玻璃器皿磨砂和酸洗、磨砂灯泡的处理等。


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