单极性和双极性半导体元件的问题

单极性和双极性半导体元件的问题,第1张

单极器件和双极器件的单双指的是载流子的类型。双极器件内部有两种载流子参与导电,比如双极结型晶体管,也就是常说的三极管,存在两对PN结,电流来自于两种载流子的扩散电流。单极器件则是只有一种载流子参与导电的器件,比如MOSFET(金属氧化物半导体场效应管)。其栅极控制栅下方的沟道反型形成二维电子气或者二维空穴气,所以参与导电过程的只有电子或者空穴,而不是两种载流子同时参与。由此可见单极器件一般可达到的电流要小于双极器件。因此在大电流应用的领域中一般要采用双极器件,比如最近几年兴起的IGBT。但是双极器件往往是PN结组成的器件,其漏电往往较高,因此在静态情况下需要低损耗的领域需要采用单极器件,比如现在的集成电路,都是CMOS工艺,其中主要器件都是MOSFET。

单极型半导体器件是场效应管。

场效应晶体管主要有两种类型:结型场效应管和金属—氧化物半导体场效应管,由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。

N型半导体内的负电子被吸引而涌向加有正电压的P型半导体端,而P型半导体端内的正电子则朝N型半导体端运动,从而形成导通电流。

同理,当二极管加上反向电压时,这时在P型半导体端为负电压,正电子被聚集在P型半导体端,负电子则聚集在N型半导体端,电子不移动,其PN结没有电流通过,二极管截止。

扩展资料:

场效应管工作原理:

场效应管工作原理用一句话说,就是漏极-源极间流经沟道的ID,用以栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压控制ID。

从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。

在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有绝缘特性,通常电流也难流动。

但是此时漏极-源极间的电场,实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。

因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次,VGS向负的方向变化,此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。

参考资料来源:百度百科—场效应管

单极性半导体只有 P 型或 N 型半导体组成,如场效应管,只有一种载流子 —— 多数载流子参与导电。而二极管、三极管是由 P、N 两种半导体组成,同时存在多数载流子电流与少数载流子电流。


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