单片机控制7寸tft模块液晶屏，具体怎么写程序，大概思路

第一，逻辑上是一样的，如果接的口一样，改动量会很小

第二，如果没有gui的话那就需要你进行液晶屏的最底层 *** 作，比如说初始化，画点，画线这些最基本的工作都需要自己来完成，最好还是用一个gui来减少这些麻烦，不然你浪费的精力不是一点两点

液晶显示器的结构一般地，TFT-LCD由上基板组件、下基板组件、液晶、驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成，其中：下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列，而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构，液晶填充于上、下基板形成的空隙内。图11显示了彩色TFT-LCD的典型结构， 图12图进一步显示了背光灯模组与驱动电路单元的结构。在下玻璃基板的内侧面上，布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线，它们均由光刻、刻蚀等微电子制造工艺形成，其中每一像素的TFT半导体器件的剖面结构如图13所示。在上玻璃基板的内侧面上，敷有一层透明的导电玻璃板，一般为氧化铟锡（Indium Tin Oxide, 简称ITO）材料制成，它作为公共电极与下基板上的众多导电微板形成一系列电场。如图14所示。若LCD为彩色，则在公共导电板与玻璃基板之间布满了三基色（红、绿、蓝）滤光单元和黑点，其中黑点的作用是阻止光线从像素点之间的缝隙泄露，它由不透光材料制成，由于呈矩阵状分布，故称黑点矩阵（Black matrix）。2 液晶显示器的制造工艺流程彩色TFT-LCD制造工艺流程主要包含4个子流程：TFT加工工艺（TFT process）、彩色滤光器加工工艺（Color filter process）、单元装配工艺（Cell process）和模块装配工艺（Module process）[1][2]。各工艺子流程之间的关系如图21所示。 图21 彩色TFT-LCD加工工艺流程21TFT加工工艺（TFT process）TFT加工工艺的作用是在下玻璃基板上形成TFT和电极阵列。针对图13所示TFT和电极层状结构，通常采用五掩膜工艺，即利用5块掩膜，通过5道相同的图形转移工艺，完成如图13TFT层状结构的加工[2]，各道图形转移工艺的加工结果如图22所示。 (a)第1道图形转移工艺 (b) 第2道图形转移工艺 (c) 第3道图形转移工艺 (d) 第4道图形转移工艺 (e) 第5道图形转移工艺图22 各道图形转移工艺的加工结果图形转移积工艺由淀积、光刻、刻蚀、清洗、检测等工序构成，其具体流程如下[1]： 开始玻璃基板检验薄膜淀积清洗覆光刻胶曝光显影刻蚀去除光刻胶检验结束其中刻蚀方法有干刻蚀法和湿刻蚀法两种。上述各种工序的加工原理与集成电路制造工艺中使用的相应工序的加工方法原理类似，但是，由于液晶显示器中的玻璃基板面积较大，TFT加工工艺中采用的加工方法的工艺参数和设备参数有其特殊性。22滤光板加工工艺 (a)玻璃基板 (b) 阻光器加工 (c) 滤光器加工 (d) 滤光器加工 (e) 滤光器加工 (f) ITO淀积图23滤光器组件的形成过程滤光板

TFT应该是有源矩阵液晶显示器的意思，以区别与无源矩阵STN和CSTN。

液晶显示屏的显示采用行地址和列地址交叉输出信号的方式扫描显示图像。一般分为有源矩阵和无源矩阵。

无源矩阵由于采用分时控制各个象点的对比度，每个象点在大部分的时间内都不能显示图象（由于刷新较快，所以感觉图象是连续的）。这样的，每个象点的对比度被平均，所以对比度较差，图像不清晰。特别是像素较多的时候，由于分给每行的时间更少，对比度更差，所以对于高像素的无源矩阵，一般采用分幅显示或每个像素再细分多点的方式显示。所以就有了超扭矩向列CSTN。但不管怎么说，图像质量都是有限的。

有源矩阵的原理和无源矩阵不同，它的每个像素都有一个CMOS管进行放大，是各个独立的，所以最终效果和响应时间都比无源矩阵要好很多。但耗电较大，价格也较贵。

至于所谓的动态矩阵是什么意思？？我也不太明白，会不会某些产家的噱头而已，并非电子学中正式说法，就如前一段时间什么6D画质提高电路一样，又如什么影蝶机的什么多重纠错一样，本来只是一种广告形式，是每个厂家为自己独特的技术自己起的一个名字。

无论多大的LCD，对外一般只有十到二十个引脚，当然不是一个引脚对应一个点了，而是通过这些引脚组成的总线访问LCD控制器的特定地址来实现内容显示的，比如说左上角的第一个点对应于LCD控制器中显示缓存的地址0，那么通过向地址0写入颜色数据就可以让对应的点显示颜色了。

大致的就是这样，具体的也不好讲

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