半导体镀膜工艺是什么

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。

离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不需再加工。

ABS、PC、ABS+PC塑料底材UV真空镀膜表面出现油点、油窝问题的解决方法：

UV真空镀膜为什么要除油？

1.塑料注塑成型使用脱模剂等导致塑料表面沾有油污，是电镀不良缺陷主要的原因。在塑料表面电镀罩UV光油的表面处理工艺中，塑料注塑成型工艺中脱模剂残留在塑料表面导致电镀不良是较为常见的.

2.脱模剂能够对塑料模具成型的塑料提供快捷有效的脱模作用，而残留在塑料制品表面的脱模剂油污，会在材质表面形成分布不均匀的油花或者油点。

静川化工UV真空镀膜处理剂的应用：

  白电油浸泡除油方法，安全性能成为较大的隐患，除油效果不稳定，施工工艺繁琐，造成影响电镀效果的因素增多，没有足够的市场经验和实验基础，且无法达到环保标准需求。但是静川化工UV真空镀膜处理剂则只需喷涂的电镀除油剂， *** 作工艺简单，能够配合线体进行施工，遮盖油污能力强，无卤通过RoHS检测，已通过大量的市场应用证明，除油效果稳定，效率高，无卤环保，提升良率幅度大。

PVD镀膜技术所制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数和化学稳定性等优点。最初在刀具领域的成功应用引起了各大制造业的高度重视，人们在开发高性能且可靠性涂层设备的同时，也在各个制造业领域中进行了更加深入的涂层应用研究。

首先，来跟着我认识一下什么PVD？

PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

PVD(物理气相沉积)技术又为三大类，分别是真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

PVD镀膜技术它的原理呢，是在真空条件下，通过大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

我在给大家介绍一下磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是在靶材与真空室壁之间施加电场，使氩气电离，并使氩离子加速撞击靶材表面。靶材被亚离子撞击，靶材原子溢出并以数十甚至上百电子伏特的动能飞向被镀基片表面并沉积在基底表面，原子动能较蒸发高出两个数量级，填充密度高达98%，折射率高且稳定。

我认为PVD镀膜与传统化学电镀相比唯一的相同点是，都是通过一定的方式将一种材料覆盖在另一种材料的表面。但两者也有不同点，PVD膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多，而且不会产生有毒或有污染的物质。

PVD真空镀膜也在塑料行业上有着广泛的使用，因为塑料具有容易成型的特点，所以他的成本很低，质量也很轻，具有耐腐蚀等特点，通过PVD真空镀膜可以使塑料的表面具有导电的性能，而且PVD涂层也能够减少它的吸水率，等镀膜完成后，针孔也会随着减少，吸水率也会降低，经过镀膜的材料表面的金属光泽被彩色化，装饰性能也具有很大的提升。

目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，黑色，灰黑色等。通过控制镀膜过程的相关参数，就可以镀出我们所需要的颜色镀膜结束后使用相关的仪器对颜色进行测量，使颜色得以量化，确定所镀出的颜色能否满足我们的要求。

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