中微半导体5nm真假_技术

中微半导体5nm是误导性新闻。

某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候，中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻，后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。

中微公司从未发布上述信息，也从未授权任何媒体机构和个人刊发、转载此报道。该报道曲解了中微在3月11日CCTV-2《中国财经报道》节目中的采访内容，节目中提到中微公司的某个机台正在测试5纳米工艺。

在采访报道中，中微董事长兼CEO尹志尧博士表示：“国际上最先进的芯片生产公司像英特尔、台积电、三星，他们的14纳米已经成熟生产了，10纳米和7纳米很快进入生产，所以我们必须超前，5纳米今年年底基本上就要定了，现在进展特别快，几乎一年两年就一代，所以我们就赶得非常紧。”

实际上，正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商，推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。中微作为设备公司，是向他们提供可加工先进器件的设备，协助他们实现新一代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发，而独立地掌握5纳米技术。

中微从事的是半导体高端设备的开发、销售和售后服务，是一种市场化的商业行为，在国际半导体设备产业，参与产业链的合作和竞争也是十分正常的。文章的作者也不应该将这种正常的商务行为过分夸大和渲染，造成不必要的、非商业的敏感性。

扩展资料

刻蚀机是芯片制造的核心设备，和光刻机的作用是一样重要的，只不过其不存在技术壁垒，所以不存在一家独大的局面。

刻蚀机主要用来在芯片上进行微观雕刻，刻出又细又深的线条和接触孔，需要注意的是，这些线条和接触孔的加工精度是头发丝直径的几万分之一，可见这项工作有多精细，这也对刻蚀机的精度提出了很高的要求，不能有丝毫偏差，而如今中微半导体成功研发出5nm刻蚀机也能够解决芯片研发中的难题，意义重大。

中微半导体刻蚀机不仅获得台积电的认可，而且还获得不少国产厂商的青睐，近日长江存储就向中微半导体采购9台刻蚀机，接下来中微半导体还将和粤芯、合肥长鑫等多家厂商合作，国产厂商齐心协力，共同打赢这场芯片反击战。

参考资料：百度百科—中微半导体设备（上海）有限公司

光刻机和刻蚀机的区别：

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

1944年，尹志尧出生在北京的一个爱国家庭，他的祖父是公费留学生，父亲也曾留学日本然后又回到祖国，为国家做贡献。

1962年尹志尧顺利考入中国科学技术大学化学物理系，1968年顺利毕业后，他先后分配到兰州炼油厂和中科院兰州物理化学所工作，1978年，尹志尧再接再厉又进入到北京大学化学系攻读硕士学位，1980年他又前往美国加利福尼亚大学洛杉矶分校，继续深造在获得物理化学博士学位。

之后尹志尧在硅谷工作了20年在此期间先进入到英特尔公司，1986年尹志尧受邀加入到L5M，主要负责等离子体刻蚀设备的研发，1991年应用材料公司请他担任等离子刻蚀总部的工程及技术主管。为了避免知识产权方面的问题，他带领团队从头开始，仅用了九年时间，就让应用材料公司占据国际刻蚀机设备市场的40%

尹志尧在半导体行业，有86项美国专利，和200多项各国专利，并被公认为是硅谷最有成就的华人之一。

然而就在60岁退休之际，尹志尧做出了一个大胆的决定，他带着自己的15人团队回到了中国，2004年，他创办了中微半导体公司，让中国突破了刻蚀机的技术垄断奠定了我国自主生产芯片的技术，如今，中微半导体公司生产的刻蚀机在米粒上刻一亿个字到十亿个字的突破，而尹志尧对祖国的贡献还在继续。

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。

扩展资料：

光刻机一般根据 *** 作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

3.自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

参考资料：百度百科-光刻机，百度百科-刻蚀

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