rta是什么意思？

rta是快速热退火。

rta是将工件加热到较高温度，根据材料和工件尺寸采用不同的保温时间，然后进行快速冷却，目的是使金属内部组织达到或接近平衡状态，获得良好的工艺性能和使用性能。

RTA在现代半导体产业有重要的应用。可以用极快的升温在目标温度（1000℃左右）短暂持续，对硅片进行热处理。注入硅片的退火经常在注入Ar或者N2的快速热处理机（RTP）中进行。

快速的升温过程和短暂的持续时间能够在晶格缺陷的修复、激活杂质和最小化杂质扩散三者之间取得优化。RTA还能减小瞬时增强扩散。RTA是控制前结注入中结深最佳方法。

rta的注意事项：

在半导体工业中，快速热退火 (RTA) 是用于激活掺杂剂和金属接触界面反应的工序。一般而言，该 *** 作指的是将晶片从环境温度快速加热至约 1000–1500 K，晶片达到该温度后会保持几秒钟，然后完成淬火。

红外线灯泡用于加热晶片，基于晶片发出的辐射，用间接传感器确定晶片的温度。

半导体rtp是快速热处理的意思。

快速热处理，是一种升温速度非常快保温时间很短的热处理方式。

升温速率能达到10~100摄氏度每秒。一般采用红外卤素灯或者电阻棒加热，加热时电流很大，功率很大。

半导体的制备

1、沙子：硅是地壳内第二丰富的元素，而脱氧后的沙子（尤其是石英）最多包含25%的硅元素，以二氧化硅（SiO2）的形式存在，这也是半导体制造产业的基础。

2、硅熔炼：12英寸／300毫米晶圆级，下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅，学名电子级硅（EGS），平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的，最后得到的就是硅锭。

3、单晶硅锭：整体基本呈圆柱形，重约100千克，硅纯度99.9999%。

4、硅锭切割：横向切割成圆形的单个硅片，也就是我们常说的晶圆（Wafer）。

5、晶圆：切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕，表面甚至可以当镜子。

将钢加热到A1＋10-15℃×t(min),并作短时间的保温，除游离碳化物外，使珠光体中的碳化物部分溶解于奥氏体中，未溶解的碳化物片层受表面能的影响，逐渐破碎并趋于球状。

然后缓冷至A1-10--15℃，使之碳化物成为球状。如此，循环数次，便可达到球化的目的。

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