为什么说日本对韩国出口原料的限制会直接影响到了三星等半导体厂商的产能？

月日本宣布对出口至韩国的三种半导体材料加以管控，此举不仅将对韩国半导体产业造成冲击，并且可能会对三星的5G布局造成不利影响......

日本限制向韩国出口用于半导体制造过程中“清洗”所需的高纯度氟化氢、涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”、用于制造电视和智能手机显示面板的氟化聚酰亚胺，这3种材料是显示面板及半导体芯片制造过程当中所需的关键材料。该限制令已于7月4日开始执行。日本对韩国实施出口管制后，韩国半导体企业和面板企业短期内很难找到替代厂家，三星和LG等公司将受到冲击。

接下来是预烘和底胶涂覆工艺，光刻胶中含有溶剂，硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性，这是与底胶涂覆合并进行的，底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用 (HMDS)六甲基二硅胺、在 PR 旋转涂覆前 HMDS 蒸气涂覆、PR 涂覆前用冷却板冷却圆片。

2017 年半导体光刻胶需求量达 216 万加仑，较 2016 年增长 8%，销售金额超过12 亿美元。未来一段时间内半导体光刻胶领域仍将实现增长：2016-2018 年全球半导体集成电路销售额复合增长率达到 19%，5G 技术的发展仍将催动半导体芯片更新换代，刺激 I 线光刻胶市场发展；精细化需求趋势将促进分辨率更高的光刻胶的应用，进而推动 KrF 光刻胶市场的增长。另外根据摩尔定律，每隔两年电子设备的性能就会翻一番，极紫外光刻胶的出现突破了 10nm 分辨率的瓶颈，但目前极紫外光刻胶实现产业化还需一定时间，这段时间内 ArF 光刻胶仍将为最先进制程节点的主流，保持快速增长趋势。预计 2018-2022 年全球半导体光刻胶需求量增速为 6%-8%，至 2022 年需求量将达到 310 万加仑，市场规模将达到 18.5 亿美元。

   臭氧发生器是一种空气或水净化装置，它的主要作用是使用臭氧杀死细菌和过滤污染物。

    臭氧发生器是一种带内部产热的气相反应器,由于空气及其他类似气体是不良热导体,电晕放电形成的热量会使气体温度升高，较高的温度可加速臭氧的逆反应,即臭氧还原成氧气,从而降低臭氧产量。因此有效冷却也是提高臭氧发生器效率的一项措施。

有效冷却也是提高臭氧发生器效率的一项措施,由于水和油的吸热系数远远大于空气的吸热系数,因此一般工业用臭氧发生器均采用水冷式或油冷却式，由于气冷方便易行,一般在微型臭 氧发生器中经常采用此种形式。

   对于水冷却方式的臭氧发生器要考虑冷却水的水质,以防止冷却水结垢,以免影响臭氧发生器的散热效果,从而减少臭氧的产量,增加维护费用。所以冷却水水质不好的情况下，需要加一台板式冷却器。