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TII技术
技术
TII技术可望微缩超越9nm 并降低芯片成本
最新的「倾斜离子注入」(TII)制程据称能够实现比当今最先进制程更小达9nm的特征尺寸…美国柏克莱实验室(Berkeley Lab)的研究人员日前发表最新的「倾斜离子注入」(TIlted ion im
bandizip
2022-8-15
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