光刻机结构组成及工作原理

　　光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

　　光刻机一般根据 *** 作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

　　A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

　　B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

　　C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。