什么叫做光阻？

光阻，亦称为光阻剂，是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。

光阻有两种，正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist)

正向光阻是光阻的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。

负向光阻是光阻的一种，其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。

扩展资料：

光阻通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)。例如，DNQ在300纳米到450纳米间有很强的吸收。

正型光阻剂及负型光阻剂主要是应用在LED芯片制造的金属电极蒸镀Lift-off制程中，由于LED电极所使用的金属材料不易经由蚀刻的方式制作电路图形。

所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻图形，使金属在蒸镀过程中不会连续性满布在光阻剂上，再用去光阻剂的方式将未遭金属布盖的光阻部分拔起，完成金属电极的图案。

半导体制程常用的正型光阻剂，在光学曝光方式下，光阻剂上层接受能量较下层光阻高，使得正型光阻剂成像大部分图形为上窄下宽，无法经一次曝光方式即得到Overhang的图形，而负型光阻剂的成像恰好与正型光阻剂图像相反，所以负型光阻剂是lift-off制程的最佳选择。

参考资料来源：百度百科-光阻

1、Overhang是指负极极片长度和宽度方向多出正负极极片之外的部分。

2、 负极过量以上两个方面的设计都需要考虑电池制造工程能力，比如涂布面密度精度，极片尺寸精度，电芯组装精度等方面，在生产精度范围内务必保证负极过量。从电池能量密度和成本方面考虑，负极过量又应该尽可能低。但是，实际的情况特别复杂，N/P设计和Overhang设计都需要综合考虑各方面因素。

3、 那，Overhang设计对锂离子电池性能又有什么影响呢?德国明斯特大学TimDaggera做了专门实验研究这个问题。

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