gap),当入射光的能量等于能隙时,入射光将会被材料大量吸收,因此会在能隙位置出现吸收峰,这是半导体材料吸收光谱的特征峰位置。
光子的频率ν,电离能E,禁带宽度Eg,真空能级χ金属的外光电效应的频率由金属的电离能决定,hν<E时,无光电子放出且没有吸收峰,hν>E时,放出光电子,继续增加频率,电子动能增大
半导体的外光电效应,当光的频率hν=Eg时,会有一个吸收峰,但是没有光电子放出,继续增加频率,hν=E时,开始放出光电子,继续增加频率,电子动能增大
也就是说因为金属电离能E=χ,所以E<χ时,不吸收光
半导体E=Eg+χ,所以E<χ时,有一个吸收峰
额,自己写的不知道对不对,有错就抱歉了。导带极值在<110>,建立空间直角坐标系。若B在<111>方向,由空间几何知识可以算出,cos2θ=2/3,sin2=1/3,或者cos2θ=0,sin2θ=1故有两个吸收峰。同理得到在100方向有2个吸收峰,110方向有3个吸收峰,任意方向有6个吸收峰。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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