美光起诉台湾联电,离职员工携带机密跳槽联电

　　继 2017 年 9 月份，美国记忆体大厂美光 （Micron）在台湾控告晶圆代工大厂联电 （UMC），表示联电透过美光离职员工窃取 DRAM 相关机密商业资料而遭检方起诉之后， 6 日又在美国加州地方法院提起民事诉讼，控告联电及其技术协助的福建晋华侵害该公司的 DRAM 专利技术。

　　根据外电报导， 12月6 日，美光在加州地方法提起民事诉讼，控告联电及福建晋华侵害其 DRAM 营业秘密。美光表示，该公司依据保护营业秘密法，与反勒索及受贿组织法的民事条款，控告联电与福建晋华窃取其商业机密及其他不当行为。美光将积极保护其全球智慧财产权，以一切法律途径遏止任何不法滥用行为。

　　而针对美光所提出的民事告诉，联电以重大讯息公告表示，将委请律师处理，以维护公司权益及商誉之外，并强调联电向来尊重其他公司的智慧财产权，绝无任何侵害他人权益情事，公司多年来投入大量资源研发半导体制程技术，并拥有多项专利，将循法律途径维护公司权益。

　　该事件起源于 2013 年美商美光科技 （Micron） 购并瑞晶，更名为台湾美光后，旗下员工于 2015 年 11 月到 2016 年 4 月期间，陆续跳槽至竞争对手联电工作。

　　而就在员工被联电挖角离职之后，台湾美光清查发现，曾经有员工登录公司伺服器，进一步下载大量机密档案。

　　所以，就在 2017 年 2 月份报案后，配合检调单位针对前华亚科及前瑞晶的关键制程研发人员进行大规模展开搜索，并且查扣相关人等的笔电、随身碟、记事本等相关资料清查后，确认离职后前往联电任职的员工涉嫌。

　　而该案在确认为美光的离职员工，涉嫌携带晶圆制程相关机密档案跳槽联电，并且未来将运用于中国福建晋华，以协助其 32 奈米 DRAM 相关制程技术开发之后。2017 年 9 月份，台中地检署依妨害 《营业秘密法》 为由，将涉嫌美光离职员工及其指使的联电主管，以及联电公司一并起诉。

　　如今，台湾美光更在美国加州兴讼，控告联电与福建晋华的民事诉讼，企图将战线拉大，以维护其专利权的安全。