• 氮化硼可以用氮气退火吗

    答案是肯定的。氮化硼是一种半导体材料,它可以用氮气退火来改善其物理性能。氮气退火可以提高氮化硼的热稳定性和电学性能,使其具有更高的热稳定性和电学性能。此外,氮气退火还可以改善氮化硼的结构,使其具有更高的抗拉强度和抗压强度。因此,氮化硼可以用

  • ;为什么半导体IC一般使用SiH4+N2O成膜;LPTS也基本上使用N2O 而液晶TFT-LCD一般使用SiH4+NH3成膜;

    ic一般生成为P-SI, LTPS和TFT 一般是a-si, LTPS 再将a-si激光退火为P-si。SiH4+NH3生成物为a-si,SiH4+N2O产物为SIO2,用的不是同一层,IC,LTPS,TFT都有好多层。不同层不一样。折射率

    2023-4-25
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  • 半导体芯片五行属性

    半导体芯片五行属性为金。物理上是半导体(属金)。半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着

    2023-4-25
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  • 退火炉有什么作用

    我的理解是在退火的过程中,本来三价P杂质与硅的化学键断裂进而与空气中的氧结合,也就是一个氧化的过程.P杂质之所以起作用,是因为其与SI结合,这样余出一个电子的空位,使得电子的流动.氧化之后的P杂质就不参与到这个过程中来,从功能的角度上讲纯化

  • 退火的技术

    半导体退火半导体芯片在经过离子注入以后就需要退火。因为往半导体中注入杂质离子时,高能量的入射离子会与半导体晶格上的原子碰撞,使一些晶格原子发生位移,结果造成大量的空位,将使得注入区中的原子排列混乱或者变成为非晶区,所以在离子注入以后必须把半

    2023-4-25
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  • 半导体氢钝化退火工艺

    半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺。指的是将金属缓慢加热到一定温度,保持足够时间,然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度,改善切削加工性。消除残余应力,稳定尺寸,减少变形与裂纹倾向。细化晶粒,调整组织,消除组织缺陷。准确的说,退火是一种对

    2023-4-25
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  • 退火时保温时间长会导致晶粒粗大吗?

    会,只要析出相不阻碍,钉扎效果不明显,一次再结晶是容易长大的,但如果第二相细小粒子太多,二次再结晶会产生于退火延长之中,界面能消失晶粒凹陷出现巨大毫米级别的晶粒,说明退火越久,再结晶尺寸越大铝铂退火时间过长会影响铝箔的抗拉强度。铝铂在退火过

    2023-4-25
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  • 半导体氢钝化退火工艺

    半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺。指的是将金属缓慢加热到一定温度,保持足够时间,然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度,改善切削加工性。消除残余应力,稳定尺寸,减少变形与裂纹倾向。细化晶粒,调整组织,消除组织缺陷。准确的说,退火是一种对

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  • 半导体氢钝化退火工艺

    半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺。指的是将金属缓慢加热到一定温度,保持足够时间,然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度,改善切削加工性。消除残余应力,稳定尺寸,减少变形与裂纹倾向。细化晶粒,调整组织,消除组织缺陷。准确的说,退火是一种对

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  • 半导体氢钝化退火工艺

    半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺。指的是将金属缓慢加热到一定温度,保持足够时间,然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度,改善切削加工性。消除残余应力,稳定尺寸,减少变形与裂纹倾向。细化晶粒,调整组织,消除组织缺陷。准确的说,退火是一种对

    2023-4-25
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  • 4j29是什么材料?

    4J29概述4J29合金又称可伐(Kovar)合金。该合金在20~450℃具有与硅硼硬玻璃相近的线膨胀系数,居里点较高,并有良好的低温组织稳定性。合金的氧化膜致密,能很好地被玻璃浸润。且不与汞作用,适合在含汞放电的仪表中使用。是电真空器件主

    2023-4-25
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  • 在半导体工业中,有一道工序叫烧氢。

    .(1)除去氧气2Cu+O2==2CuO CuO+H2 == Cu+H2O(2)无水CaCl2(或碱石灰)吸收水蒸气(3)检验氢气纯度(4)大量的铜屑可以吸收热量,降低温度半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺

    2023-4-25
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  • 退火有什么工艺技术?

    退火工艺:1、球化退火的具体工艺①普通(缓冷)球化退火,缓冷适用于多数钢种,尤其是装炉量大时, *** 作比较方便,但生产周期长;②等温球化退火,适用于多数钢种,特别是难于球化的钢以及球化质量要求高的钢(如滚动轴承钢);其生产周期比普通球化退火短,

    2023-4-25
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  • 半导体rtp是什么意思

    半导体rtp是快速热处理的意思。快速热处理,是一种升温速度非常快保温时间很短的热处理方式。升温速率能达到10~100摄氏度每秒。一般采用红外卤素灯或者电阻棒加热,加热时电流很大,功率很大。半导体的制备1、沙子:硅是地壳内第二丰富的元素

    2023-4-25
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  • 半导体氢钝化退火工艺

    半导体氢钝化退火工艺是一种金属热处理工艺。指的是将金属缓慢加热到一定温度,保持足够时间,然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度,改善切削加工性。消除残余应力,稳定尺寸,减少变形与裂纹倾向。细化晶粒,调整组织,消除组织缺陷。准确的说,退火是一种对

    2023-4-25
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  • 半导体制作中 热预算啥意思

    集成电路工艺中,多步退火过程中有(Dt)eff=D1t1+D2t2+...+Dntn,其物理意义就是要取得一定的扩散深度,可以采用多补退火(推进)的方式实现。上式左边的(Dt)eff就是热预算,其单位为cm^2,你可以任意搭配等式右边的式子

    2023-4-25
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  • LCD中PR是什么意思

    PR 是FAB工艺中曝光使用的光刻胶简称全称是Photoresist,其实在半导体行业都是需要光刻的,PR是光刻胶的统称 有很多种,成分也不一样,性质也各有区别,分为正向光刻胶 负向光刻胶就是负性光刻胶,受特定波长的光线照射后这种类型的光刻

    2023-4-25
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  • 退火的技术

    半导体退火半导体芯片在经过离子注入以后就需要退火。因为往半导体中注入杂质离子时,高能量的入射离子会与半导体晶格上的原子碰撞,使一些晶格原子发生位移,结果造成大量的空位,将使得注入区中的原子排列混乱或者变成为非晶区,所以在离子注入以后必须把半

    2023-4-25
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  • 激光快速退火原理

    激光退火技术开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料,特别是硅.传统的加热退火技术是把整个工件放在真空炉中,在一定的温度(300°~1200℃)保温退火10~60min。可控硅又叫晶闸管,是晶体闸流管(Thyristor)的简称,俗称可控

    2023-4-25
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