半导体化学的内容可以概括为:①硅、锗、砷化镓等半导体材料的物理化学性质及其提纯精制的化学原理,完整单晶体的制取、完整单晶层的生长以及微量杂质有控制地掺入方法。②半导体器件和集成电路制造技术如清洗、氧化、外延、制版、光刻、腐蚀、扩散等主要工艺过程及化学反应原理。③半导体器件及集成电路制造工艺中所用掺杂材料、化学试剂、高纯气体、高纯水的化学性质、制备原理及纯度标准。④超纯物质分析及结构鉴定方法,如质谱分析、放射化分析、红外光谱分析等。
半导体材料的种类繁多,从单质到化合物,从无机物到有机物,从单晶体到非晶体,都可以作为半导体材料。根据材料的化学组成和结构,可以将半导体划分为:元素半导体,如硅(Si)、锗(Ge);二元化合物半导体,如砷化镓(GaAs)、锑化铟(InSb);三元化合物半导体,如GaAsAl、GaAsP;固溶体半导体,如Ge-Si、GaAs-GaP;玻璃半导体(又称非晶态半导体),如非晶硅、玻璃态氧化物半导体;有机半导体,如酞菁、酞菁铜、聚丙烯腈等。
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